• 概要

对于多步合成反应，醇羟基的保护是非常有必要的。酰基保护基一般对于酸性条件以及氧化条件非常稳定而被大家所熟知。在还原条件(DIBAL、LAH 等)，碱性条件(NaOH、K2CO3/MeOH 等)下可以被脱保护离去。

以下列出了3个代表性保护基。特别是三甲基乙酰基(Piv)可以用于立体位阻小的醇羟基的选择性保护。



胺也可以形成酰胺进行保护，一般情况下，脱保护的条件(强酸或强碱+加热)比较苛刻。除掉三氟乙酰基等容易脱去的基团以外，以及氨基甲酸酯系的保护基，保护成酰胺这种方式很少有用到。

如果基质中含有多个羟基的话，很有可能会产生酯交换，这是必须注意的地方。

• 基本文献

• 反应机理

一般吡啶类碱经常被用于该反应，主要是为了生成活化的酰基吡啶中间体。特别是，如果用4-二甲氨基吡啶(DMAP)作为亲核催化剂的话，(使用无水醋酸的情况下)该反应速率大概可以被提高一万倍。这样一来，即使反应活性比较低的羟基也可以被高效的保护。(参照： Angew. Chem., Int. Ed. Engl. 1978, 17, 522.)。

转自：化学空间