【英文名称】t-Butyldimethylchlorosilane

【分子式】 C6H15ClSi

【分子量】150.73

【CA登录号】[18162-48-6]

【缩写和别名】TBDMSCl，TBSCl，t-Butyldimethylsilyl Chloride

【物理性质】mp 86~89 oC，溶于大多数有机溶剂，通常在CH2Cl2、THF 和DMF 中使用。

【制备和商品】该试剂在国内外化学试剂公司有销售。

【注意事项】该试剂对湿气敏感，带有刺激性味道。建议在无水体系中使用，在通风橱中操作和使用。

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叔丁基二甲基氯硅烷(TBDMSCl) 是有机合成中应用最为广泛的重要保护基之一。它可以在温和的条件下与羟基反应生成相应的硅醚，与酮、酯或者酰胺反应生成相应的烯醇硅醚。TBDMSCl 与醇羟基反应生成硅醚的反应特别重要。与TMS 保护基相比较，它们的制备条件基本相同，但是TBDMS 硅醚的化学稳定性比TMS 硅醚高许多倍。所以TBDMSCl在此方面的应用范围更宽，产物的产率也普遍较高。该试剂与羟基的反应通常可以在CH2Cl2、THF 或者DMF 中进行，咪唑、吡啶和Et3N 均可用作碱 (式1)[1,2]。DMAP 常常被用作催化剂，但是如果反应中使用Et3N 作为碱，DMAP催化剂是必需的。该反应在多羟基底物上的选择性与使用的溶剂和碱催化剂有关，CH2Cl2-Et3N-DMAP 组合具有最佳的选择性，可以非常容易地实现在仲醇或者叔醇的存在下对伯醇的选择性保护 (式2)[3,4]。

TBDMSCl与酚羟基的反应与醇羟基非常类似，但反应的温度需要高一些 (式3)[5,6]。无论是醇羟基还是酚羟基生成的硅醚，去保护基的条件基本一样。通常将硅醚在aq. HCl-丙酮[7]、HF-吡啶[2]或者n-Bu4NF-THF (式4)[5] 体系中室温下搅拌数分钟即可高产率地完成去保护反应。

虽然TBDMSOTf 与羰基发生烯醇化反应生成TBDMS烯醇硅醚是目前最方便的方法，但是由于TBDMSCl具有廉价易得的优点，仍然在这些反应中得到广泛的应用。TBDMSCl与酮羰基在强碱的存在下，可以高产率地得到的TBDMS 硅醚 (式5)[8]。LDA、KHMDS 和碱金属氢化物是最常用的碱。

酸酸酯[9]和羧酸酰胺[10]与TBDMSCl 生成TBDMS 的烯醇硅醚的反应不仅需要在强碱的作用下进行，而且加入HMPA 或者DMPU有利于提高反应的速度和产率 (式6，式7)。

参考文献

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10. Neuschuetz, K.; Simone, J.-M.; Thyrann, T.; Neier, R. Helv. Chim. Acta, 2000, 83, 2712.

本文转自：《现代有机合成试剂——性质、制备和反应》，胡跃飞等编著